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  • MGD20-20高低温恒温循环槽
    MGD20-20高低温恒温循环槽

    高低温恒温循环槽(-20℃~180℃),MGD20-20实现高温195℃,低温-20℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。

    更新时间:2022-06-15型号:MGD20-20
  • G200系列高温恒温槽
    G200系列高温恒温槽

    高温恒温槽用于产品性能分析测试、计量检定、化学反应工艺过程控制、普通温度计及其它温度测量仪表制造中的定标用途。

    更新时间:2022-06-16型号:G200系列
  • MGD40-20高低温一体恒温槽
    MGD40-20高低温一体恒温槽

    高低温一体恒温槽MGD40-20为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源, 应用于-40℃~180℃(高至温度195℃)石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用

    更新时间:2022-06-15型号:MGD40-20
  • MGD20-30高低温恒温循环槽(-20℃~180℃)
    MGD20-30高低温恒温循环槽(-20℃~180℃)

    高低温恒温循环槽(-20℃~180℃),MDG20-30实现高温195℃,低温-20℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。

    更新时间:2020-06-30型号:MGD20-30
  • MGD40-54高低温恒温槽(-40℃~180℃)
    MGD40-54高低温恒温槽(-40℃~180℃)

    MDG40-54-高低温恒温槽(-40℃~180℃)实现高温195℃,低温-40℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。

    更新时间:2019-04-23型号:MGD40-54
  • 加热制冷循环器MGD20-100
    加热制冷循环器MGD20-100

    加热制冷循环器MGD20-100

    更新时间:2021-11-30型号:
  • 高低温恒温槽MGD40-100
    高低温恒温槽MGD40-100

    高低温恒温槽MGD40-100

    更新时间:2021-11-30型号:
  • 高低温恒温槽MGD40-12
    高低温恒温槽MGD40-12

    高低温恒温槽MGD40-12

    更新时间:2021-11-30型号:
  • 高低温恒温槽MGD40-30
    高低温恒温槽MGD40-30

    高低温恒温槽MGD40-30

    更新时间:2021-11-30型号:
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