超低温恒温槽（-60℃～90℃）应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用，可以提供热冷受控，温度均匀恒定的液体环境，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度达到±0.1℃。

低温恒温循环槽（-20℃～90℃），MD20-12，容积12L，控温范围-20℃～90℃，高至温度100℃，作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环使用.

低温恒温循环槽（-20℃～90℃）可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。

低温恒温循环槽MD10-8 低温恒温槽提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。

低温恒温水槽-5℃～90℃，MD5-30提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。

MD30-30加热制冷浴槽（-30℃～90℃），容积30L，控温范围-30℃～90℃，用于石油化工、制药及半导体工业等领域低温测量与检定，样品保存等浸入式实验或外循环应用

MD5-12低温恒温循环槽（-5℃～90℃）提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。